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モデルに基づく反復的再構成のための逆投影と順投影との少なくとも一方におけるシステムオプティクス
专利权人:
TOSHIBA CORP
发明人:
HEIN ILMAR A,イルマー・エー・ハイン,ZAMYATIN ALEKSANDR,アレキサンダー・ザミャチン
申请号:
JP2014016141
公开号:
JP2014147772A
申请日:
2014.01.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To reconstruct an image of superior image quality.SOLUTION: In a collection step S100, a scanner scans an analyte with X-ray so as to collect main data on the analyte. In an estimation step S110, an image is estimated on the basis of the data. In a projection step S120, the image is projected by using either a system optical model or a non-system optical model so as to generate reprojection data. In a back projection step S130, the image is subjected to back projected by using the system optical model so as to update the image on the basis of the reprojection data. The projection process S130 and the back projection process S140 are repeated.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】 優れた画質を有する画像を再構成すること【解決手段】 収集工程S100において、スキャナにより被検体をX線でスキャンして被検体に関する生データを収集する。推定工程S110において、生データに基づいて画像を推定する。順投影工程S120において、システム光学モデルと非システム光学モデルとのうちの一方を用いて再投影データを発生するために順投影する。逆投影S130において、システム光学モデルを用いて再投影データに基づいて画像を更新するために逆投影する。順投影工程S130と逆投影工程S140とは反復される。【選択図】 図8
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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