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一种纹眉用眉印
专利权人:
何强
发明人:
何强
申请号:
CN201821396671.4
公开号:
CN209662429U
申请日:
2018.28.08
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
本实用新型公开一种纹眉用眉印,该纹眉用眉印包括眉印主体,其特征在于:所述眉印主体具有至少一个与人体眼眉对应的弧形眉模,且该眉印主体外表面设置有植绒层。由于本实用新型于眉印主体外围增设了植绒层,以此可以使弧形眉模能够更好的贴合眉毛,效果更好,且植绒层可更容易上眉粉或者眉膏,以便于纹眉,且该植绒层柔软舒适,可防止刮伤皮肤,令本实用新型具有极强的市场竞争力。所述眉印主体上下两端设置有供人手捏持的上捏持槽和下捏持槽,以此使弧形眉模更加细化,减小体积以增强弹性,以致更容易贴合眉型,使用起来更加方便。所述眉印主体由弹性材料一体成型,以致更容易贴合眉型。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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