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四巯基卟啉修饰的金属有机框架纳米材料及其制备方法和用途
专利权人:
山东师范大学
发明人:
董育斌,姜嫄,阚京兰
申请号:
CN201711113809.5
公开号:
CN107828066A
申请日:
2017.11.13
申请国别(地区):
CN
年份:
2018
代理人:
摘要:
本发明提供一种四巯基卟啉修饰的金属有机框架纳米材料及其制备方法,采用UiO‑66作为金属有机框架纳米材料,以四巯基卟啉作为光敏剂,通过后修饰合成方法制得四巯基卟啉修饰的UiO‑66材料——UiO‑66‑H2TPP‑(SH)4。本发明修饰后的UiO‑66‑H2TPP‑(SH)4既保留了UiO‑66内部框架结构,在水相中仍具有良好的分散性和稳定性,又保留了卟啉光敏特性。可作为一种新型的抗癌光敏材料使用。步骤简单、操作方便、实用性强。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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