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放射線画像撮影用グリッド及びその製造方法、並びに放射線画像撮影システム
专利权人:
FUJIFILM CORP
发明人:
KANEKO YASUHISA,金子 泰久,INOUE TOMOKI,井上 知己
申请号:
JP2012055537
公开号:
JP2013188286A
申请日:
2012.03.13
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a phase-type radiographic-image imaging grid whereby almost no partial loss of X-rays occurs and deterioration over time is minimized.SOLUTION: A phase-type grid 13 includes a silicon substrate 41 and a sealing member 43. The surface of the silicon substrate 41, is formed with: a grid section 42a that produces a prescribed phase difference between X-rays passing through concave parts 46 and X-rays passing through convex parts 47 and a convex peripheral edge section 42b around the grid section 42a. The sealing member 43 is provided on the surface of the silicon substrate 41 on which the grid section 42a and the peripheral edge section 42b are formed, and abuts against at least the peripheral edge section 42b and seals the grid section 42a.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】X線の部分的な損失をほぼ発生させず、かつ、経時劣化を抑えた放射線画像撮影用の位相型グリッドを提供する。【解決手段】位相型グリッド13は、シリコン基板41と封止部材43とを備える。シリコン基板41は、凹部46を透過するX線と凸部47を透過するX線との間に所定位相差を発生させるグリッド部42aと、グリッド部42aの周囲に凸状の周縁部42bが表面に形成されている。封止部材43は、グリッド部42a及び周縁部42bが形成されたシリコン基板41の表面に設けられ、少なくとも周縁部42bと当接してグリッド部42aを封止する。【選択図】図2
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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