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一种霍山石斛种植基质配制装置
专利权人:
中国中药霍山石斛科技有限公司
发明人:
邓启超,孙大亮,刘道章,夏春兵,孙大学
申请号:
CN202120254423.1
公开号:
CN215346330U
申请日:
2021.01.28
申请国别(地区):
CN
年份:
2021
代理人:
摘要:
本实用新型公开了一种霍山石斛种植基质配制装置,包括底座和栽培箱,所述底座的上端左侧安装有配肥池,所述配肥池的左右两侧开设有第一滑槽,且第一滑槽的内部一侧设置有滑块,所述配肥池的左侧连接有水管,所述栽培箱位于滑块的上端,且栽培箱的左右两侧开设有第二滑槽,所述第二滑槽的上端一侧安装有第一固定板,且第一固定板的内部上端设置有第一栽培槽。该霍山石斛种植基质配制装置,与现有的普通霍山石斛种植基质配制装置相比,水管、第二滑槽、第一栽培槽、第二栽培槽、第一喷头和第二喷头的设置,可以使第一栽培槽和第二栽培槽进行高度的调节,对第一喷头和第二喷头的高度进行调整,实用性强,且便于调节。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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