CHO, IN SHIKKR,조인식,GOO, HYUNG SEOKR,구형서,HAN, IL MINKR,한일민,LEE, JAE KWANGKR,이재광
申请号：
KR1020160100195
公开号：
KR1020180016144A
申请日:
2016.08.05
申请国别(地区):
KR
年份:
2018
代理人:
摘要：
The present invention relates to a hair cleansing composition containing 3 to 20 wt% of cocamidopropyl betaine 0.1 to 1 wt% of a nonionic surfactant 0.1 to 1 wt% of tertiary amidoamine and 3 to 20 wt% of an anionic surfactant, wherein the total content of the anionic surfactant and the cocamidopropyl betaine is 15 to 40 wt% based on the total weight of the hair cleansing composition. The hair cleansing composition causes less skin irritation, is easy to use without containing any of sulfate based anionic surfactants and PEG-based thickeners, and has excellent bubbling and conditioning properties.COPYRIGHT KIPO 2018본 발명은 코카미도프로필베타인 3 내지 20중량% 비이온 계면활성제 0.1 내지 1중량% 3급 아미도 아민 0.1 내지 1중량% 및 음이온 계면활성제 3 내지 20중량% 를 포함하는 모발 세정제 조성물에 있어서, 음이온 계면활성제 및 코카미도프로필베타인 합계의 총 함량은 상기 모발 세정제 조성물 총 중량에 대하여 15 내지 40중량%이고, 피부자극이 적으면서도 설페이트계 음이온 계면활성제 및 PEG계 점증제 중 어느 하나도 포함되지 않고도 사용하기 용이한 점도를 구현하고, 기포 및 컨디셔닝이 우수한 모발 세정제 조성물에 관한 것이다.
