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化粧料用基剤およびそれを配合してなる化粧料
专利权人:
日油株式会社
发明人:
手塚 洋二,円山 圭一
申请号:
JP2005287001
公开号:
JP4951921B2
申请日:
2005.09.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a base for cosmetics having excellent feeling as well as high moisture retention, easily removable by washing and keeping the moisture retention even after washing and provide cosmetics containing the base.SOLUTION: The base for cosmetics is composed of a polyalkylene glycol derivative expressed by formula (I): R1O-(AO)m-(CH2CH2CH2CH2O)l-(AO)n-R2 (AO is a 2-3C oxyalkylene group R1 and R2 are each a hydrogen atom, a 6-24C fatty acid residue or a hydrocarbon group provided that the ratio of hydrogen atoms in R1 and R2 is &le0.50 l is the average addition molar number of oxytetramethylene group satisfying the formula 2&lel&le50 and m+n is the average addition molar number of the oxyalkylene group satisfying the formulas 1&lem+n&le200 and 0.02&lel/(m+n)&le1).COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT【課題】 優れた感触と高い保湿性の双方を有し、洗浄性が良好で洗浄後も保湿性を持続することのできる化粧料用基剤、およびこれを含む化粧料を提供する。【解決手段】 下記の式(I)で示されるポリアルキレングリコール誘導体からなる化粧料用基剤。R1O-(AO)m-(CH2CH2CH2CH2O)l-(AO)n-R2 (I)(式中、AOは炭素数2~3のオキシアルキレン基、R1とR2は、同一または異なってもよい水素原子、炭素数6~24の脂肪酸残基または炭化水素基で、かつ該水素原子の割合は0.5以下である。lは、オキシテトラメチレン基の平均付加モル数で、2≦l≦50、m+nは、オキシアルキレン基の平均付加モル数で、1≦m+n≦200を満たし、さらに、0.02≦l/(m+n)≦1を満たす。)【選択図】 なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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