The present invention relates to an aqueous composition of an acid to remove the dissolved chlorine dioxide of from about 100 to about 2000 ppm and wetting effects and spores of spore forming bacteria consisting of a surfactant system having all of the available effect.본 발명은 약 100 내지 약 2000 ppm의 용존 이산화염소와 습윤 효과 및 가용 효과 모두를 가지는 계면 활성제 시스템으로 이루어진 포자 형성 박테리아의 포자들을 제거하기 위한 산성의 수성 조성물을 개시한다.