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하악을 전진시키기 위한 방법 및 장치
专利权人:
发明人:
옌 궈핑
申请号:
KR1020077018193
公开号:
KR1012837600000B1
申请日:
2006.01.09
申请国别(地区):
KR
年份:
2013
代理人:
摘要:
calibration device to hold the mandible in a forward or extended position of the patient (100) covering the mandible in contact with the gums of the patient intraoral mandibular anterior piers to resist the contraction of lower value surface (125 ) and the oral cavity anterior mandibular abutment surface 125 maxillary anterior maxillary lateral abutment surface that is beneath the leaning (115) includes . So as to resist the rotation of the orthodontics devices caused by the interaction of the intraoral anterior mandibular abutment surface and the front upper outer upper abutment surface, and the calibration device has intraoral posterior maxillary abutment surface 140 is provided . The relative position of the maxillary and mandibular abutment surface can be adjusted to suit the user s requirements .환자의 하악을 전진 또는 돌출 위치에 보유하기 위한 교정 장치(100)는 상기 하악을 덮고 있는 환자의 잇몸에 접촉하여 하악의 수축력에 대해 저항하는 구강내 전방 하악 교각치 표면(125) 및 상기 구강내 전방 하악 교각치 표면(125)이 기대어 받쳐지는 상악외측 전방 상악 교각치 표면(115)을 포함한다. 상기 구강내 전방 하악 교각치 표면 및 상악외측 전방 상악 교각치 표면의 상호 작용에 의해 발생되는 치과 교정 장치의 회전에 대해 저항하도록, 상기 교정 장치에는 구강내 후방 상악 교각치 표면(140)이 제공된다. 상악 및 하악 교각치 표면들의 상대 위치들은 사용자의 요구 조건에 적합하도록 조정될 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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