用于形成吸收垫的设备和方法
- 专利权人:
- GDM股份公司
- 发明人:
- M·皮安托尼,V·索利,M·罗萨尼,F·托斯卡尼,G·波利
- 申请号：
- CN201880020204.8
- 公开号：
- CN110446478A
- 申请日:
- 2018.26.01
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 一种形成吸收垫的方法,该吸收垫包括第一层、第二层以及吸收性材料,该吸收性材料介于第一层与第二层之间并根据具有不含吸收性材料的至少一个通道的散布型式M1布置,该方法包括馈送旨在形成垫的第一层的第一幅材(NW1)的步骤;馈送旨在形成垫的第二层的第二幅材(NW2)的步骤;根据散布型式M1将吸收性材料散布在第一幅材(NW1)上的步骤;连结第一幅材和第二幅材(NW1、NW2)的步骤、以及移除可能存在于通道中的任何吸收性材料的步骤。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
