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皮膚用化粧料組成物、皮膚用化粧料用抗菌剤及びジオール化合物が有する抗菌効果の増強方法
专利权人:
株式会社ADEKA
发明人:
津島 康宏,鈴木 裕之
申请号:
JP2016503949
公开号:
JPWO2015125392A1
申请日:
2014.12.16
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
It is an object of the present invention to provide a skin cosmetic composition having antimicrobial properties and being safe to the human body without using parabens and an antibacterial agent for skin cosmetic. In order to achieve the above object, the present invention relates to a composition comprising (A) component which is one or two selected from hexyl glyceryl ether and cyclohexyl glyceryl ether, 1,2-propanediol and 1,3-propane diol (B) which is one kind or two kinds selected from the group consisting of citric acid, lactic acid, hydroxyethylethylenediamine triacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, dihydroxyethylglycine, gluconic acid, phytic acid, pentetoic acid, etidronic acid, tartaric acid and these (C) which is at least one member selected from the group consisting of gluconolactone, gluconolactone, and component (C), and at least one component selected from the group consisting of the component (A), the component (B) (C) as an antimicrobial agent for skin cosmetics. The present invention also provides a method of enhancing the antibacterial effect possessed by the diol compound of the component (A).本発明は、パラベン類を使用しなくても、抗菌性を有し、人体に対し安全な皮膚用化粧料組成物及び皮膚用化粧料用抗菌剤を提供することを目的とする。 上記目的を達成するため、本発明は、ヘキシルグリセリルエーテル及びシクロヘキシルグリセリルエーテルから選択される1種又は2種である(A)成分、1,2-プロパンジオール及び1,3-プロパンジオールから選択される1種又は2種である(B)成分、並びにクエン酸、乳酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、ジヒドロキシエチルグリシン、グルコン酸、フィチン酸、ペンテト酸、エチドロン酸、酒石酸及びこれらの塩、及びグルコノラクトンからなる群から選択される1種又は2種以上である(C)成分を含有する皮膚用化粧料組成物、及び前記(A)成分、前記(B)成分及び前記(C)成分を含む皮膚用化粧料用抗菌剤を提供する。また本発明は、前記(A)成分のジオール化合物が有する抗菌効果の増強方法も提供する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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