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APPLIED MASK ARRANGEMENT FOR REST
专利权人:
E ENERGY INDÚSTRIA DE PRODUTOS MAGNÉTICOS LTDA
发明人:
SERGIO KOJI TANAKA
申请号:
BR202018006384
公开号:
BR202018006384U2
申请日:
2018.03.28
申请国别(地区):
BR
年份:
2019
代理人:
摘要:
resting mask arrangement. refers to a mask (1) provided with handles (2) and (3) capable of conforming the fit to the wearer's head by means of a velcro (v); an internal foam (i) to accommodate long infrared tablets (4) and a neodymium magnet (5) sufficiently capable of providing relaxation and well-being to the wearer.disposição aplicada em máscara para repouso. refere-se a uma máscara (1) dotada de alças (2) e (3) capaz de conformar o ajuste para a cabeça do usuário por meio de um velcro (v); uma espuma interna (i) para acomodar pastilhas de infravermelho longo (4) e um imã neodímio (5), suficientemente capazes de prover relaxamento e bem-estar ao usuário.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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