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新規なベンジル(ピリジルメチル)アミン構造を有するピリミジン化合物及びこれを含有する医薬
专利权人:
興和株式会社
发明人:
扇谷 忠明,三浦 徹,奥田 歩,荒井 俊晴,山崎 浩市,青木 太郎,三代沢 勝利,柴田 治樹,渋谷 公幸
申请号:
JP2008528866
公开号:
JP5129138B2
申请日:
2007.08.09
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
Compounds represented by the following formula having a potent inhibitory activity against CETP (I), a salt thereof or a solvate thereof. (Wherein the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, R 6, R 7, and R 1, R 2, R 3, R 4, and R 5, R 8 is , which may be the same or different, each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or the like, R 9, and R 10, which may be the same or different each represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower cycloalkyl lower alkyl group or the like , R 11 is,. indicating a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkoxy group, a lower alkylthio-lower alkoxy, lower alkyl sulfinyl lower alkoxy group, a lower alkylsulfonyl lower alkoxy group)CETPに対し強い阻害活性を有する下記の一般式(I)で表される化合物、若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物。(式中、R1、R2、R3、R4、及びR5は、それぞれ同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基等を示し、R6、R7、及びR8は、それぞれ同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基等を示し、R9、及びR10は、それぞれ同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル低級アルキル基等を示し、R11は、水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ低級アルコキシ基、低級アルキルスルフィニル低級アルコキシ基、低級アルキルスルホニル低級アルコキシ基等を示す。)
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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