放射治疗装置控制装置、放射治疗系统
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 高桥邦夫
- 申请号：
- CN201380078537.3
- 公开号：
- CN105431198B
- 申请日:
- 2013.10.08
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种放射治疗装置控制装置、放射治疗系统、放射治疗装置控制方法及程序。该放射治疗装置控制装置控制放射治疗装置,所述放射治疗装置具备:支架,以能够绕第1轴线旋转的方式支承射线照射装置;及环,以能够绕与所述第1轴线交叉的第2轴线旋转的方式支承所述支架,所述放射治疗装置控制装置具备:移动路径信息存储部,存储设定在所述射线照射装置的移动路径的信息;及控制部,根据所述支架的旋转角度及所述环的旋转角度,在维持所述移动路径的信息所示的所述支架的转速与所述环的转速之比的状态下,限制所述支架的转速及所述环的转速。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
