This method of manufacturing a radiation detector comprises: a step for forming a TFT substrate, in which a flexible base material is provided on a support body with a release layer interposed therebetween, and in which a plurality of pixels are provided in a pixel region on the base material； a step for forming a conversion layer for converting radiation into light on a first surface of the base material； a step for providing a first reinforcing substrate on a surface of the conversion layer on the side thereof opposite the surface on the TFT substrate side； a step for peeling off the TFT substrate on which the conversion layer and the first reinforcing substrate are provided from the support body； a step for providing a second reinforcing substrate to a second surface that is the surface of the TFT substrate, which was peeled off from the support body, where the TFT substrate was peeled off from the support body； and, after the second reinforcing substrate providing step, a step for peeling off the first reinforcing substrate from the TFT substrate provided with the conversion layer. The foregoing makes it possible to provide a method of manufacturing a radiation detector and a radiation image photographing device which can inhibit the occurrence of substrate defects and which have excellent reworkability.La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un détecteur de rayonnement, le procédé comprenant : une étape de formation d'un substrat TFT, dans laquelle un matériau flexible de base est disposé sur un corps de support en intercalant une couche de libération entre le matériau flexible de base et le corps de support, et dans laquelle une pluralité de pixels sont fournis dans une région de pixel sur le matériau de base； une étape de formation d'une couche de conversion servant à convertir un rayonnement en une lumière sur une première surface du matériau de base； une étape de placement d'un premier substrat de renforcement sur une surface de la couche
