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PARP阻害活性を有する新規化合物
专利权人:
SANTEN PHARMACEUTICAL CO.; LTD.
发明人:
HIRAI, Shin-ichiro,平井慎一郎,KURASHIMA, Hiroaki,倉島宏明,HONDA, Takahiro,本田崇宏,ENOMOTO, Hiroshi,榎本裕志,KAWASHIMA, Kenji,川島健二,TAKAOKA, Shinji,高岡慎治,FUJIOKA, Yasutaka,藤岡恭丘,MATSUDA, Mamoru,松田学,OHASHI, Koji,大橋康司,FUJI
申请号:
JPJP2012/067775
公开号:
WO2013/008872A1
申请日:
2012.07.12
申请国别(地区):
WO
年份:
2013
代理人:
摘要:
A compound represented by general formula (1) or a salt thereof. R1 represents a halogen atom or the like R2 and R3 represent a hydrogen atom or the like R4 and R5 represent a hydrogen atom or the like or R4 and R5 may form an oxo group Ra and Rb represent an optionally substituted lower alkyl group or the like or may bond and form a nitrogen-containing heterocycle optionally substituted by one or multiple Rc Rc represents an optionally substituted aryl group or the like ring A represents a benzene ring or the like m represents 0, 1, or 2.Linvention concerne un composé représenté par la formule générale (1) ou un de ses sels. R1 représente un atome dhalogène ou analogue R2 et R3 représentent un atome dhydrogène ou analogue R4 et R5 représentent un atome dhydrogène ou analogue ou R4 et R5 peuvent former un groupe oxo Ra et Rb représentent un groupe alkyle inférieur éventuellement substitué ou analogue ou peuvent être reliés et former un hétérocycle contenant de lazote éventuellement substitué par un ou plusieurs Rc Rc représente un groupe aryle éventuellement substitué ou analogue le cycle A représente un cycle benzène ou analogue m représente 0, 1 ou 2.下記一般式(1)で表される化合物またはその塩。R1はハロゲン原子などを示し;R2およびR3は水素原子などを示し;R4およびR5は水素原子などを示すか、または、R4とR5でオキソ基を形成してもよく;RaおよびRbは置換基を有してもよい低級アルキル基などを示すか、または、結合して1または複数個のRcで置換されてもよい含窒素複素環を形成してもよく;Rcは置換基を有してもよいアリール基などを示し;環Aはベンゼン環などを示し;mは0、1または2を示す。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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