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DENTURE COMPOSITION AND DENTURE BIOFILM FORMATION INHIBITOR
专利权人:
LION CORP;ライオン株式会社
发明人:
TAKIMOTO YUNA,瀧本 悠菜,TSUTSUMI KOTA,堤 康太
申请号:
JP2018107702
公开号:
JP2019210247A
申请日:
2018.06.05
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
To provide a denture biofilm formation inhibitor that is high in Candida bactericidal activity and is high in denture biofilm formation inhibitory effect, and a denture composition containing the same.SOLUTION: A denture biofilm formation inhibitor contains (A) calcium glycerophosphate, and (B) alkyl amine oxide and/or (C) cationic surfactant. A denture biofilm formation inhibitor contains the (A) component and (B) and/or (C) component.SELECTED DRAWING: None【課題】カンジダ菌殺菌力が高く、かつデンチャーバイオフィルム形成抑制効果が優れるデンチャーバイオフィルム形成抑制剤及びこれを含有する義歯用組成物を提供する。【解決手段】(A)グリセロリン酸カルシウムと、(B)アルキルアミンオキシド及び/又は(C)カチオン性界面活性剤とを含有する義歯用組成物、及び前記(A)成分と(B)及び/又は(C)成分とからなるデンチャーバイオフィルム形成抑制剤。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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