表面处理剂
- 专利权人:
- 株式会社芳珂;学校法人甲南学园
- 发明人:
- 岩本千纮,粂井贵行,渡边顺司
- 申请号：
- CN201510236154.5
- 公开号：
- CN105287253A
- 申请日:
- 2015.05.11
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明在于提供一种表面处理剂，即通过干燥时为疏水性，与水接触时慢慢变为亲水性，从而化妆保持性与冲洗性并存。具体而言，为含有下述通式(1)表示的第1嵌段共聚物的表面处理剂。(式(1)中，R1、R2各自独立地表示烷基、聚氧化亚烷基、酰基、苯基、芳烷基，X表示不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1～18的烷基链，Y表示单键或2价的连接基团，Z1表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度)。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
