The problem addressed by the present invention is to provide a composition that is for external application to skin and contains an acidic polysaccharide and salt-resistant polymer, wherein makeup unevenness does not arise when a cosmetic material is re-applied after having been applied. The composition for external application to skin contains (A) a salt-resistant polymer, (B) an acidic polysaccharide, and (C) an amphipathic compound represented by the belowmentioned general formula (1): Z-[O-{(EO)a(PO)b}-(AO)c-H]n (1) (in the formula: n, a, b, and c represent specific numbers； and Z, EO, PO, and AO represent specific groups).La présente invention vise à fournir une composition qui est conçue pour une application externe sur la peau et contient un polysaccharide acide et un polymère résistant au sel, un maquillage irrégulier ne se produisant pas lorsqu'une matière cosmétique est à nouveau appliquée après avoir été appliquée. La composition pour une application externe sur la peau contient (A) un polymère résistant au sel, (B) un polysaccharide acide, et (C) un composé amphipathique représenté par la formule générale mentionnée ci-dessous (1) : Z-[O-{(EO)a(PO)b}-(AO)c-H]n (1) (dans la formule : n, a, b et c représentent des nombres spécifiques ； et Z, EO, PO et AO représentent des groupes spécifiques).本発明は、耐塩性高分子及び酸性多糖類を含む皮膚外用組成物において、適用した後に化粧料を重ねて塗布した場合にメイクよれを生じない皮膚外用組成物を提供することを課題とする。 本発明は、（Ａ）耐塩性高分子と、（Ｂ）酸性多糖類と、（Ｃ）下記一般式（１）で表される両親媒性化合物とを含む皮膚外用組成物である： Ｚ―〔Ｏ―{（ＥＯ）ａ（ＰＯ）ｂ}―（ＡＯ）ｃ―Ｈ〕ｎ （１） （式中、ｎ、ａ，ｂ及びｃは特定の数を表し、Ｚ、ＥＯ、ＰＯ及びＡＯは特定の基を表す。）。
