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一种纯钛表面电化学沉积制备含铜抗菌涂层的方法
专利权人:
上海理工大学
发明人:
李强,刘旭燕,杨金帅,黄奇,孙浩,张然
申请号:
CN202011053484.8
公开号:
CN112160004A
申请日:
2020.09.29
申请国别(地区):
CN
年份:
2021
代理人:
摘要:
本发明提出一种纯钛表面电化学沉积制备含铜抗菌涂层的方法,包括以下步骤:对钛片进行表面预处理;对预处理后的钛片进行酸处理;配置电解质溶液;将所述钛片作为阴极,取阳极,将所述阴极和所述阳极均置于所述电解质溶液中;将装有所述电解质溶液的电解池置于恒温水浴中,待溶液温度与水浴温度一致,通电开始电化学沉积,沉积一段时间后,获得含铜抗菌涂层。本发明的制备方法工艺简单、耗时短且设备要求低,涂层中铜含量可控可调;本发明制备的含铜抗菌涂层比羟基磷灰石涂层更加平滑致密,含铜抗菌涂层比羟基磷灰石涂层孔隙率相对较低;本发明制备的含铜抗菌涂层表面没有的大肠杆菌存活,表明羟基磷灰石涂层中的铜对抗菌性有很大提升。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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