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MASK
专利权人:
日本光電工業株式会社;NIPPON KODEN CORP
发明人:
BABA YUYA,馬場 裕也,MATSUBARA ISAO,松原 功
申请号:
JP2018181852
公开号:
JP2020048927A
申请日:
2018.09.27
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
To suppress discomfort which is applied to a subject due to wearing a mask.SOLUTION: A mask body 2 partitions a space for covering at least one of a nose and a mouth of a subject. A cushion member 5 extends along a peripheral edge part 23 of the mask body 2. The cushion member 5 includes a first region 51 and a second region 52. The first region 51 includes a part contacting a face of a subject when a mask 1 is worn by the subject. The second region 52 is arranged between the first region 51 and the mask body 2. A surface of the first region 51 has a non-adhesive property higher than that of a surface of the second region 52. The second region 52 has transparency so that the space can be viewed by through-view.SELECTED DRAWING: Figure 3【課題】マスクの装着が被検者に与える不快感を抑制する。【解決手段】マスク本体2は、被検者の鼻と口の少なくとも一方を覆う空間を区画する。クッション部材5は、マスク本体2の周縁部23に沿って延びる。クッション部材5は、第一領域51と第二領域52を含んでいる。第一領域51は、マスク1の装着時において被検者の顔面に接する部分を含んでいる。第二領域52は、第一領域51とマスク本体2の間に位置している。第一領域51の表面は、第二領域52の表面よりも高い非粘着性を有している。第二領域52は、前記空間を透視可能な透明性を有している。【選択図】図3
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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