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一类含羟肟酸基团的二芳基乙烯类LSD1/HDACs双靶点抑制剂、其制备方法及应用
专利权人:
新乡医学院
发明人:
段迎超,靳林峰,关圆圆,袁航,文郁康,陈书慧,秦文平,张少杰
申请号:
CN202010516850.2
公开号:
CN111592487A
申请日:
2020.06.09
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明涉及一类含有羟肟酸基团的二芳基乙烯类LSD1/HDACs双靶点抑制剂、其制备方法及在制备抗肿瘤药物中的应用,属于药物化学技术领域。所述的化合物具有如下通式:其中优选3‑位或4‑位单取代;R2优选OH、OCH3、F、H;R3优选H、CH2OH;R4优选为H、CH3、F、OCH3;R5优选H、OH、CH2OH、CH3、F、OCH3;X为N或者CH;Y为N或者CH。本发明所述化合物对LSD1和HDAC1/6均具有较强的抑制活性,且对LSD1具有很好的选择性,多个化合物对人结肠癌HCT‑116细胞株和人胃癌MGC‑803细胞株的体外抗肿瘤活性优于上市药物SAHA。为LSD1/HDACs双靶点抑制剂类药物的研发提供了基础,可作为进一步开发的候选或者先导化合物用于开发抗肿瘤治疗药物。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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