A process for manufacturing a ceramic implant with a surface which forms a permanent bonding to bone cell tissues, the surface providing improved osseointegration, the process comprising the step of:&mdash；a pretreatment of the ceramic material with the surface wherein said surface of the ceramic material is exposed to a conditioning plasma, which is produced by means of direct current (DC) or alternating current (AC), such as high or radio frequency (HF, RF), or microwaves (MW) at a low pressure, followed by a second step；&mdash；a treatment with a reactive plasma in which an organic compound is added to the plasma for the at least partial application of an organic phase to said surface wherein the organic compound is selected from the group consisting of aliphatic amines, cyclic amines, unsaturated and aromatic amines as well as combinations thereof.L'invention porte sur un procédé pour la fabrication d'un implant en céramique présentant une surface qui forme une liaison permanente à des tissus cellulaires osseux, la surface assurant une ostéo-intégration améliorée, le procédé comprenant : l'étape de prétraitement du matériau céramique présentant la surface, ladite surface du matériau céramique étant exposée à un plasma de conditionnement, qui est produit au moyen de courant continu (CC) ou de courant alternatif (CA), tels que des hautes fréquences ou des radiofréquences (HF, RF), ou des micro-ondes (MO) à basse pression； suivie d'une seconde étape de traitement avec un plasma réactif, un composé organique étant ajouté au plasma pour l'application au moins partielle d'une phase organique sur ladite surface, le composé organique étant choisi dans le groupe constitué par les amines aliphatiques, les amines cycliques, les amines insaturées et aromatiques ainsi que les combinaisons de celles-ci.
