There is provided a spinal implant device for placement between adjacent spinous processes. The spinal implant device includes first and second fixation plates, a connector, and first and second lag screws. The first fixation plate includes a first and second screw holes. The second fixation plate includes third and fourth screw holes. The first lag screw extends through the first and third screw holes and threadedly engages a respective one of the first or third screw holes with the superior spinous process disposed between the first and second superior ends. The second lag screw extends through the second and fourth screw holes and threadedly engages a respective one of the second or fourth screw holes with the inferior spinous process disposed between the first and second inferior ends. A method of implanting the device is provided.Cette invention concerne un système dimplant rachidien destiné à être inséré entre des apophyses épineuses adjacentes. Le système dimplant rachidien comprend des première et seconde plaques de fixation, un connecteur, et des première et secondes vis de compression. La première plaque de fixation comprend des premier et deuxième trous à vis. La seconde plaque de fixation comprend des troisième et quatrième trous à vis. La première vis de compression sinsère dans les premier et troisième trous à vis et solidarise par le filetage respectif du premier ou troisième trou à vis lapophyse épineuse supérieure qui se trouve entre les première et seconde extrémités supérieures. La seconde vis de compression sinsère dans les deuxième et quatrième trous à vis et solidarise par le filetage respectif du deuxième ou quatrième trou à vis lapophyse épineuse inférieure qui se trouve entre les première et seconde extrémités inférieures. Un procédé de mise en place du dispositif est décrit.
