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Use of charged surfactants to reduce stains on textile materials caused by antiperspirants
专利权人:
Beiersdorf AG
发明人:
URBAN, Michael,MIERTSCH, Heike,BIEL, Stefan,KÜHNE, Sabine,BRÜNING, Stefan,KAWA, Rolf
申请号:
ES10705820
公开号:
ES2601679T3
申请日:
2010.02.24
申请国别(地区):
ES
年份:
2017
代理人:
摘要:
Cosmetic or dermatological preparation comprising one or more substances of antiperspirant action and one or more charged surfactants, the proportion being by weight of the substances of antiperspirant action with respect to the surfactants in the range of 1: 1 to 30: 1, characterized by that at least one compound of formula (I) ** Formula ** in which R1 represents a saturated or unsaturated, linear, branched or cyclic alkyl or aryl group containing 8 to 24 C atoms is contained as a surfactant, R2 represents a group saturated or unsaturated alkylene, linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted, with 1 to 10 C atoms and 0 to 5 hydroxyl groups, R3, R4, R5 independently of each other represent hydrogen, a C1-C4 alkyl group, a C5 or C6 cycloalkyl group, an aryl group or a C2-C4 and X- hydroxyalkyl group represents a monovalent anion.Preparación cosmética o dermatológica que comprende una o varias sustancias de acción antitranspirante y uno o varios tensioactivos cargados, encontrándose la proporción en peso de las sustancias de acción antitranspirante con respecto a los tensioactivos en el intervalo de 1 : 1 a 30 : 1, caracterizada por que como tensioactivo está contenido al menos un compuesto de fórmula (I)**Fórmula** en la que R1 representa un grupo alquilo o arilo saturado o insaturado, lineal, ramificado o cíclico con 8 a 24 átomos de C, R2 representa un grupo alquileno saturado o insaturado, lineal, ramificado o cíclico, sustituido o no sustituido, con 1 a 10 átomos de C y de 0 a 5 grupos hidroxilo, R3, R4, R5 independientemente entre sí representan hidrógeno, un grupo alquilo C1-C4, un grupo cicloalquilo C5 o C6, un grupo arilo o un grupo hidroxialquilo C2-C4 y X- representa un anión monovalente.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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