流体测定装置、流体测定方法以及程序
- 专利权人:
- 京瓷株式会社
- 发明人:
- 长坂优志
- 申请号：
- CN201980007436.4
- 公开号：
- CN111566456A
- 申请日:
- 2019.01.23
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 一实施方式所涉及的流体测定装置具备：发光部，能够向包含流体的被照射物照射光；光接收部，能够对由流体散射的散射光进行接收；以及控制部，具有基于散射光来生成频谱的生成部、以及基于频谱的特征分量来推定流体的流动状态的推定部。并且，控制部在由生成部生成基于测定对象的流体的第1频谱、以及基于已知的流动状态的流体的第2频谱之后，由推定部对比第1频谱的特征分量和第2频谱的特征分量，从而能够推定测定对象的流体的流动状态。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
