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用于用介质阻挡等离子体进行处理的处理仪
- 专利权人:
- 奇诺格有限责任公司
- 发明人:
- M·哈恩尔,K-O·施托克,L·特鲁特威格,D·万德克,M·科普,A·黑尔姆克
- 申请号：
- CN201680041373.0
- 公开号：
- CN107847721A
- 申请日:
- 2016.06.16
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种用于待用介质阻挡等离子体处理的表面的处理仪,其包括:壳体(1),该壳体具有端壁(14,14’);电极(18,33),该电极通过构成所述端壁(14,14’)的至少一个部分的电介质(19,34)相对于待处理的所述表面屏蔽,所述电极能够与高压发生器(17)连接;其中,所述端壁(14,14’)具有至少一个间隔保持件(29,29’),在所述至少一个间隔保持件(29,29’)贴靠在待处理的所述表面上时,通过所述间隔保持件构成至少一个气体空间,在所述气体空间中形成所述介质阻挡等离子体用于所述处理,通过如下方式能够实现用所述介质阻挡等离子体同时处理和处理剂的配量供应:在所述端壁(14,14’)的背离待处理的所述表面的侧上布置有能够填充处理剂的储存腔(25,25’),所述端壁(14,14’)具有贯通开口(28,28’);并且所述储存腔(25,25’)在其体积方面能够这样减小,使得在体积减小的情况下,处理剂穿过所述贯通开口(28,28’)到达待处理的所述表面的区域中。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
