一种西瓜培育的方法
- 专利权人:
- 卢晋
- 发明人:
- 卢晋
- 申请号：
- CN202010579952.9
- 公开号：
- CN111820085A
- 申请日:
- 2020.06.23
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及西瓜培育技术领域，且公开了一种西瓜培育的方法，包括以下步骤：挑选种植地，首先对种植地进行深翻，深翻之后对种植地进行喷洒低毒除草剂和防虫剂，然后暴晒十天，再对种植地进行开沟，相邻沟的间隔为一米，深度为三十厘米，沟宽为三十厘米。该西瓜培育的方法，可提高西瓜的产量，增加西瓜的个头，同时也可避免在移栽之后西瓜苗会出现损伤和根部虫咬的情况，通过对种植地进行开沟，可增加种植地的深度，将沟中的土壤翻至西瓜种植区内，保持土壤具有较好的持水性，避免西瓜苗生长过程中缺水，导致西瓜不甜的情况，增加西瓜苗的成活率和节瓜率，可有利提高西瓜的个头，同时也会增加西瓜的产量和甜度，增加销售额。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
