Eine Bestrahlungsvorrichtung mit geladenem Teilchenstrahl ist vorgesehen, welche in der Lage ist, eine Größenzunahme zu verhindern und ein ausreichendes Bestrahlungsfeld zu gewährleisten.Eine Bestrahlungsvorrichtung mit geladenem Teilchenstrahl gemäß einem Ausführungsbeispiel umfasst: eine erste Abtastelektromagnetvorrichtung, die konfiguriert ist, um einen geladenen Teilchenstrahl in eine zweite Richtung abzulenken, die im Wesentlichen senkrecht zu einer ersten Richtung ist, entlang welcher der geladene Teilchenstrahl eintritt； und eine zweite Abtastelektromagnetvorrichtung, die konfiguriert ist, um den geladenen Teilchenstrahl in eine dritte Richtung abzulenken, die im Wesentlichen senkrecht zu der ersten Richtung und der zweiten Richtung ist, wobei die erste Abtastelektromagnetvorrichtung und die zweite Abtastelektromagnetvorrichtung parallel zu der ersten Richtung angeordnet sind.A charged particle beam irradiation apparatus is provided, which is capable of preventing an increase in size and ensuring a sufficient irradiation field. A charged particle beam irradiation apparatus according to an embodiment comprises: a first scanning solenoid device configured to deflect a charged particle beam in a second direction substantially perpendicular to a first direction along which the charged particle beam enters； and a second scanning solenoid device configured to deflect the charged particle beam in a third direction that is substantially perpendicular to the first direction and the second direction, wherein the first scanning solenoid device and the second scanning solenoid device are arranged parallel to the first direction.
