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A stereolithography material set, a method of manufacturing a stereolithography object, and a manufacturing apparatus of a stereolithography object
专利权人:
가부시키가이샤 리코
发明人:
와타나베 마사키,사이토 다쿠야,사쿠라이 요이치,니이미 다츠야
申请号:
KR1020187013682
公开号:
KR1020180070634A
申请日:
2016.10.19
申请国别(地区):
KR
年份:
2018
代理人:
摘要:
24. A stereolithographic material set, comprising: a first liquid material for stereolithography; And a second liquid material for stereolithography, wherein the first liquid material includes a solvent, an organic compound A and inorganic particles, and the second liquid material includes an organic compound B having reactivity with the organic compound A <; / RTI >; is provided.입체 조형 재료 세트로서, 상기 재료 세트는 제1의 입체 조형용 액체 재료; 및 제2의 입체 조형용 액체 재료를 포함하고, 상기 제1의 액체 재료는 용매, 유기 화합물 A 및 무기 입자를 포함하고, 상기 제2의 액체 재료는 상기 유기 화합물 A에 대하여 반응성을 갖는 유기 화합물 B를 포함하는 입체 조형 재료 세트가 제공된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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