您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

化粧品用共重合体、化粧品粉体用表面処理剤、化粧用粉体および化粧料
专利权人:
AGC SEIMI CHEMICAL CO.; LTD.
发明人:
ISHIWATA Fusae,石渡房恵
申请号:
JPJP2012/071158
公开号:
WO2013/031594A1
申请日:
2012.08.22
申请国别(地区):
WO
年份:
2013
代理人:
摘要:
The purpose of the present invention is to provide: a copolymer for cosmetics, which has excellent water repellency and oil repellency even though a polyfluoroalkyl group therein has 6 or less carbon atoms a surface treatment agent which contains the copolymer for cosmetics a powder for cosmetics, which is treated with the surface treatment agent and has excellent water repellency and oil repellency and a cosmetic preparation which contains the powder for cosmetics. A copolymer for cosmetics of the present invention contains: 70-90% by mass of a constituent unit (A) that is derived from a compound represented by formula (a) 2-25% by mass of a constituent unit (B) that is derived from a compound represented by formula (b) 2-25% by mass of a constituent unit (C) that is derived from a compound represented by formula (c) 0.1-10% by mass of a constituent unit (D) that is derived from a compound represented by formula (d) and a residue (E) of a chain-transfer agent (e) that contains an OH group or a COOH group.CH2=CR1-COO-Q1-Rf (a)CH2=CR2-Q2-COOH (b)CH2=CR3-COO-(R4O)n-R5 (c)CH2=CR7-COO-Q3-P(O)(OH)-R8 (d)La présente invention concerne un copolymère pour cosmétiques, doté de remarquables capacités hydrofuges et oléofuges même lorsquil comporte un groupe polyfluoroalkyle comprenant 6 atomes de carbone ou moins un agent de traitement superficiel contenant ledit copolymère pour cosmétiques une poudre pour cosmétiques, traitée au moyen dudit agent de traitement superficiel et dotée de remarquables capacités hydrofuges et oléofuges et une préparation cosmétique contenant ladite poudre pour cosmétiques. Un copolymère pour cosmétiques selon la présente invention contient 70 à 90 % en poids dun motif constitutif (A) issu dun composé de formule (a) 2 à 25 % en poids dun motif constitutif (B) issu dun composé de formule (b) 2 à 25 % en poids dun motif constitutif (C) issu dun composé de formule (c) 0,1 à 10 % en poids dun motif constitutif (D) issu dun composé de formule (d)
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充