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校正装置および校正方法
专利权人:
オリンパス株式会社
发明人:
伊藤 遼佑
申请号:
JP2013534750
公开号:
JPWO2013042742A1
申请日:
2012.09.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
calibration equipment and calibration multiple calibration items can be carried out in a single operation It will provide a way. Measuring probe 3 is arranged at a position spaced apart a predetermined distance L from the tip of the measurement probe 3 in a state of being inserted into the insertion portion 41a, along with the reflectivity is uniform within the irradiation surface in the measured wavelength range, the reflection a standard reflecting plate 43 characteristics is stabilized, and a standard reflecting plate 43 has a large scattering mean free path of the material of the standard reflecting plate 43 than the spatial coherence length Lsc as defined with a predetermined distance L.複数の校正項目を1回の操作で行うことができる校正装置および校正方法を提供する。測定プローブ3が挿入部41aに挿入された状態で測定プローブ3の先端部から所定の距離L離れた位置に配置され、測定対象波長範囲で反射率が照射面内で一様であるとともに、反射特性が安定した標準反射板43と、を備え、標準反射板43が所定の距離Lを用いて定められる空間コヒーレンス長Lscよりも標準反射板43を構成する材料の散乱平均自由行程が大きい。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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