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インプラントおよびその製造方法
专利权人:
SHIGA PREFECTURE
发明人:
OKADA TARO,岡田 太郎,SATO TORU,佐藤 徹
申请号:
JP2013035185
公开号:
JP2014161520A
申请日:
2013.02.25
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a high-biocompatible implant with roughened surface to be embedded in a bone tissue or the like.SOLUTION: The manufacturing method of an implant includes the steps of: processing a substrate by at least shot-blasting the treatment surface of a titanium-based substrate composed of metal including titanium (Ti) so as to have a substrate surface with fine irregularities and eluting metal from the substrate surface by electric conduction to the substrate surface immersed in an electrolyte with use of the titanium-based substrate as positive electrode (anode) so as to make the treatment surface into a porous surface having many distributed pores. The elution step is preferably a step of using saline solution as the electrolyte. In addition, the elution step is preferably a step of conducting electricity with a current density of 0.25 to 0.55 A/cm2.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】骨組織等に埋入される表面を粗面化した高生体親和性のインプラントの製造方法を提供する。【解決手段】本発明のインプラントの製造方法は、チタン(Ti)を含む金属からなるチタン系基材の被処理面へ少なくともショットブラスト加工を行い被処理面を微細な凹凸状の下地面とする下地加工工程と、このチタン系基材を陽極(アノード)として電解液中に浸漬された下地面へ通電することにより下地面から金属を溶出させて被処理面を多数の気孔が分布した多孔質面とする溶出工程と、を備えることを特徴とする。この際、溶出工程は、電解液に食塩水を用いる工程であると好ましい。また溶出工程は、電流密度が0.25~0.55A/cm2である通電を行う工程であると好ましい。【選択図】図2C
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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