一种辐照腔中效应物内部场强的局部聚焦装置及其构建方法

• 收藏
• 分享

专利权人:

西北核技术研究所

发明人:

胡龙,陈昌华,杜太焦,蔡利兵,郑奎松,朱湘琴,潘亚峰

申请号：

CN201811527813.0

公开号：

CN109701162A

申请日:

2018.13.12

申请国别(地区):

CN

年份:

2019

代理人:

摘要：

本发明提出一种辐照腔中效应物内部场强的局部聚焦装置及其构建方法,基于介质透镜的聚焦原理来研究辐照腔内效应物内部场强局部聚焦,采用在辐照腔上、下两个平行板的内侧分别放置一定尺寸及一定介质参数的两个介质透镜,靠近介质透镜的效应物内测点的场出现局部增强,并且场强聚焦点与透镜聚焦点并非同一坐标位置(两个位置相近)。本发明克服了实现频率为0~200MHz左右场强聚焦的单凸透镜尺寸过大的技术难题,提高了靠近介质透镜的效应物内部测点的场强,达到了效应物内部测点的局部聚焦效果。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/