Methods and compositions for reducing immunogenicity of chimeric Notch receptors

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专利权人:

셀 디자인 랩스, 인크.

发明人:

길버트, 에이미,슬레푸시킨, 블라디미르,엠티지, 피터,레브스카야, 안셈,스콧, 스펜서

申请号：

KR1020207001681

公开号：

KR1020200019722A

申请日:

2018.06.19

申请国别(地区):

KR

年份:

2020

代理人:

摘要：

The present invention relates to methods and compositions for reducing the immunogenicity of chimeric Notch receptors, and in particular transcription factors useful for controlling gene expression delivered to tissue by such Notch receptors.본 발명은 키메라 Notch 수용체의 면역원성을 감소시키는 방법 및 조성물, 및 특히 이러한 Notch 수용체에 의해 조직으로 전달되는 유전자 발현을 제어하는데 유용한 전사 인자에 관한 것이다.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/