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隔片形成用放射线敏感性树脂组合物、隔片及其形成方法以及液晶显示元件
- 专利权人:
- JSR株式会社
- 发明人:
- 一户大吾,山田义隆,岩渊智子,西尾寿浩,西川通则
- 申请号:
- CN200510000493.X
- 公开号:
- CN100428027C
- 申请日:
- 2005.01.11
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2008
- 代理人:
- 刘激扬
- 摘要:
- 本发明涉及一种隔片形成用放射线敏感性树脂组合物、隔片及其形成方法以及液晶显示元件。本发明提供的隔片形成用放射线敏感性树脂组合物即使是用实质上不含有350nm以下的波长的放射线曝光也可容易形成高分辨率、高灵敏度且图形形状、压缩强度、研磨耐性、与透明基板的密着性等诸性能优良的隔片。隔片形成用放射线敏感性树脂组合物,其特征是含有以下成份:[A](a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐和、(a2)含有环氧基不饱和化合物和、(a3)其他的不饱和化合物的共聚物、[B]聚合性不饱和化合物、[C]双咪唑系化合物、[D]具有羰基的放射线敏感性聚合引发剂,以及[E]具有二烷基氨基的化合物和/或[F]硫醇系化合物。
- 来源网站:
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址:
- http://www.ckcest.cn/home/