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含氮雜環化合物
专利权人:
FUJIFILM CORPORATION;TOYAMA CHEMICAL CO., LTD.
发明人:
TANAKA, TADASHI,田中正,FUJINO, MASATAKA,藤野正堂,FURUYA, KENTAROU,古屋贤太朗,古屋賢太朗
申请号:
TW105122410
公开号:
TW201713622A
申请日:
2016.07.15
申请国别(地区):
TW
年份:
2017
代理人:
摘要:
A compound represented by the general formula, or a salt thereof, has exceptional CXCL10 inhibitory activity and is useful as a treatment agent for the prevention and/or treatment, etc., of diseases involving overproduction of CXCL10. In the formula: R1 is a C1-6 alkyl group, etc.; R2 is a hydrogen atom, etc.; R3 is a halogen atom, etc.; Z1, Z2, and Z3 are CH, etc.; X1 is CONH, etc.; ring A is a phenyl group, etc.; R4 is a halogen atom, etc.; and m is an integer of 0-5.一種下列通式所表示的化合物或其鹽:「式中,R1表示C1-6烷基等;R2表示氫原子等;R3表示鹵素原子等;Z1、Z2及Z3表示CH等;X1表示CONH等;環A表示苯基等;R4表示鹵素原子等;m表示0~5之整數」,其具有優異的CXCL10抑制活性,有用於作為與CXCL10之過度產生有關的疾病之預防及/或治療等之處置劑。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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