等离子体处置系统
- 专利权人:
- 奥林巴斯株式会社
- 发明人:
- 石川学,木村修一,渡边宏一郎
- 申请号：
- CN201580012364.4
- 公开号：
- CN106170262B
- 申请日:
- 2015.27.03
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 在等离子体处置系统中,对导电性溶液的灌注层的温度进行探测的温度探测部固定于处置部且位于在第一电极部和第二电极部浸在了所述灌注层中的状态下浸在所述灌注层中的位置。在所述等离子体处置系统中,控制部基于所述温度探测部的探测结果来对由温度调整单元进行的温度的调整和所述导电性溶液的供给量及吸引量进行控制,从而调整所述灌注层中的所述导电性溶液的温度,使得成为所述灌注层的所述温度在目标的温度范围的状态。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
