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IMPLANT-MEASUREMENT SYSTEM AND METHOD FOR MEASURING IMPLANT STATE
专利权人:
シロナ・デンタル・システムズ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
发明人:
ファイファー,ヨアヒム,ティール,フランク
申请号:
JP2019502209
公开号:
JP2019524251A
申请日:
2017.07.21
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
The present invention relates to an implant supporting tooth supported by at least two implants (3, 4, 6, 7), comprising a scan template (2) and at least two set implants (3, 4, 6, 7). Implant for planning replacement part (33)-relates to a measurement system (1) for measuring the implant state (5). The scan template (2) has cutouts (11, 12, 13, 14) for the individual implants (3, 4, 6, 7) and the first marking (25) has cutouts (11, 12, 13). , 14) on the surface area (24) around. [Selection] Figure 1本発明は、スキャンテンプレート(2)および少なくとも2つのセットされたインプラント(3、4、6、7)を含む、少なくとも2つのインプラント(3、4、6、7)で支持された、インプラント支持歯置換部(33)を計画するためのインプラント-インプラント状態(5)を測定するための測定システム(1)に関する。スキャンテンプレート(2)は、個々のインプラント(3、4、6、7)について切り抜き(11、12、13、14)を有し、第一のマーキング(25)は、切り抜き(11、12、13、14)の周囲の表面領域(24)上に配置される。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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