Disclosed are methods of using a catheter and an implanted lead spacing apparatus, a system, and a catheter and an implanted lead spacing device.An exemplary catheter system may comprise a holding structure extending farther from the tubular member.An implantable device such as a lead re spacing device may be disposed within the cavity of the holding structure.The holding structure may comprise one or more electrical ports adjacent to the proximal end of the holding structure and adjacent or proximate to the proximal end of the implanted device.The electrical port may provide a conductive path extending through the distal structure to enable the electrical signal to pass through the distal structure to and from the implanted device.カテーテル及び植込み型リードレスペーシング装置、システム、並びにカテーテル及び植込み型リードレスペーシング装置を利用する方法が開示される。例示的なカテーテルシステムは、管状部材から遠位方向に延びる保持構造を備え得る。リードレスペーシング装置などの植込み型装置は、保持構造のキャビティ内に配置され得る。保持構造は、保持構造の近位端に隣接し、かつ、植込み型装置の近位端に隣接するか又は近接する１つ以上の電気ポートを備え得る。電気ポートは、電気信号が遠位構造を通って植込み型装置に及び／又は植込み型装置から通過することを可能にするために、遠位構造を通って延びる導通路を提供し得る。
