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ＣＶＤ反応器のための改良された放射シールディング
- 专利权人:
- ジーティーエイティー・コーポレーション
- 发明人:
- ガム，ジェフリー・シィ,クラーク，ブライス・イー,ガノン，ポール・イー,マクファーランド，マイク,マンデプディ，シバ
- 申请号：
- JP20160543729
- 公开号：
- JP2017503078(A)
- 申请日:
- 2014.12.29
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 開示の要約反応チャンバは、内部の赤外線放射に対する９０％以上の平均反射率を提供する金属窒化化合物で内部がコーティングされたエンクロージャを含む。金属窒化化合物は窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム、または別の金属の窒化物であり得て、厚さが０．１ミクロン〜１０ミクロン、好ましくは４ミクロン〜５ミクロンであり得る。層は変色せず、少なくとも２５０℃、好ましくは３００℃まで上がった反応チャンバの温度に耐え得る。それは、ＰＶＤ、ＣＶＤ、溶射、または陰極アークなどの蒸着処理によって施され、エンクロージャ自体が金属窒化物蒸着エンクロージャとなっている。蒸着ソースを、全部で３６０／ｄ回繰り返してＴ度および逆方向にＴ±ｄ度回転させることによって、蒸着の均一性を改良することができる。反
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
