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PROCESSING APPARATUS AND COLLIMATOR
专利权人:
TOSHIBA CORP;株式会社東芝
发明人:
KATO SHIGUMA,加藤 視紅磨,TERADA TAKAHIRO,寺田 貴洋,TANAKA MASAYUKI,田中 正幸
申请号:
JP2016011512
公开号:
JP2017133047A
申请日:
2016.01.25
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing apparatus causing particles discharged in a direction inclined to pass therethrough within a predetermined angle range.SOLUTION: A processing apparatus according to one embodiment comprises a generation source arrangement part, a first body arrangement part, and a first collimator. A particle generation source capable of discharging particles is arranged at the generation source arrangement part. A first body is arranged at the first body arrangement part. The first collimator is arranged between the generation source arrangement part and first body arrangement part, and has a plurality of first walls and a plurality of second walls, a plurality of first through holes which extend in a first direction from the generation source arrangement part toward the first body arrangement part are formed of the plurality of first walls and the plurality of second walls, and each of the plurality of second walls is provided with at least one first passage.SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】所定の角度の範囲内で傾斜した方向に放出された粒子を通過させる処理装置を提供する。【解決手段】一つの実施形態の処理装置は、発生源配置部と、第1の物体配置部と、第1のコリメータとを備える。前記発生源配置部に、粒子を放出することが可能な粒子発生源が配置される。前記第1の物体配置部に第1の物体が配置される。前記第1のコリメータは、前記発生源配置部と前記第1の物体配置部との間に配置され、複数の第1の壁と、複数の第2の壁と、を有し、前記複数の第1の壁及び前記複数の第2の壁によって、前記発生源配置部から前記第1の物体配置部へ向かう第1の方向に延びる複数の第1の貫通孔を形成し、前記複数の第2の壁にそれぞれ少なくとも一つの第1の通路が設けられる。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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