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Implant encapsulation
专利权人:
Itzik Maschiach;Adi Mashiach
发明人:
Adi Mashiach,Itzik Maschiach
申请号:
US14476715
公开号:
US09220907B2
申请日:
2014.09.03
申请国别(地区):
US
年份:
2015
代理人:
摘要:
An implant unit may include a substrate and an implantable circuit arranged on the substrate. An encapsulation structure may be disposed over at least a portion of the substrate and at least a portion of the implantable circuit, the encapsulation structure including a parylene layer and a silicon layer disposed over the parylene layer.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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