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プラズマ発生装置、及びプラズマ手術装置
专利权人:
プラズマ サージカル エービー
发明人:
スースロフ、ニコライ
申请号:
JP2008519874
公开号:
JP5231221B2
申请日:
2006.07.07
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
An anode, a cathode, in the longitudinal direction, the present invention relates to a plasma generating apparatus and a plasma channel extending at least partially between the cathode and the anode. And a cathode tip tapering is attached towards the anode, a part of the cathode tip end of the cathode directed to the anode, extends over a partial length of a plasma chamber connected to the plasma channel . The plasma chamber has a cross-section transverse to the longitudinal direction of the plasma channel, the cross section is greater than the cross-section across positioned in the plasma channel, closest to the cathode, the opening, the longitudinal direction of the plasma channel . The present invention relates to the use of these plasma surgical device and plasma surgical device.本発明は、アノードと、カソードと、その長手方向において、カソードとアノードとの間に少なくとも部分的に延在するプラズマ・チャネルとを備えるプラズマ発生装置に関する。アノードに向けられるカソードの端は、アノードに向かってテーパが付けられたカソード先端を有し、カソード先端の一部は、プラズマ・チャネルに接続されるプラズマ・チャンバの部分的長さにわたって延在する。プラズマ・チャンバは、プラズマ・チャネルの長手方向を横切る断面を有し、その断面は、プラズマ・チャネルの、カソードの最も近くに位置決めされた、開口の、プラズマ・チャネルの長手方向を横切る断面を上回る。本発明はまた、プラズマ手術装置及びこうしたプラズマ手術装置の使用法に関する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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