TAZAROTENE WITH LOW DIMER IMPURITY FOR TREATING ACNE OR PSORIASIS

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专利权人:

SUN PHARMACEUTICAL INDUSTRIES LIMITED

发明人:

THENNATI, Rajamannar,REHANI, Rajeev Budhdev,VAGHELA, Mukesh Nathalal,PANDYA, Rashminkumar Rameshchandra

申请号：

ININ2014/000776

公开号：

WO2015/107542A3

申请日:

2014.12.15

申请国别(地区):

WO

年份:

2016

代理人:

摘要：

The present invention relates to a method of treating acne or psoriasis by topically administering Tazarotene substantially free of dimer impurity of formula 4,4-dimethyl-6-[4-(4,4-dimethylthiochroman-6-yl)-buta-1,3-diynyl]-thiochroman.La présente invention concerne une méthode de traitement de lacné ou du psoriasis par administration topique de tazarotène sensiblement exempt dimpureté dimère de formule 4,4-diméthyl-6-[4- (4,4-diméthylthiochromane-6-yl)-buta -1,3-diynyl]-thiochromane.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/