パターン照射装置、システム、操作方法、及びプログラム
- 专利权人:
- 株式会社リコー
- 发明人:
- 高橋 達也,藤田 和弘,村井 俊晴
- 申请号：
- JP20150158381
- 公开号：
- JP2017037189(A)
- 申请日:
- 2015.08.10
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】より簡易な構成で、投射画像の切り替えを可能とすること。【解決手段】光源の点灯を制御する光源制御部１０１と、光源の光を第１のパターン部に導いてパターン光を生成する第１の光路と、光源の光を第１のパターン部とは異なる第２のパターン部に導いてパターン光を生成する第１の光路とは異なる第２の光路とを切り替える切替部１０２と、第１のパターン部及び第２のパターン部で生成されるパターン光をそれぞれ所定のタイミングで投影面に投射光学系を介して拡大照射する照射制御部１０３と、を備える。【選択図】図３
- 来源网站：
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