PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning device which stably cleans a processing object when housing and cleaning the processing object in the container, and to provide a cleaning method.SOLUTION: A cleaning device 1 includes: a container 20； a cleaning water supply passage； a process liquid discharge passage which discharges cleaning water used for processing from the container 20； and a processing object discharge part which discharges a processing object W to the exterior of the container. The container 20 includes: a cylindrical body 21； a first wall part 22 disposed at a first end part of the cylindrical body 21, the first wall part 22 in which a main opening part 25 is formed； a second wall part 23 disposed at a second end part of the cylindrical body 21, the second wall part 23 in which an overflow discharge port 26 for discharging an overflowed process liquid is formed； and a floor member 24 on which the processing object W is placed. The floor member 24 includes a second floor member 24B where the second end part side inclines upward.【課題】処理対象物を容器内に収容して洗浄する場合に、処理対象物を安定して洗浄することが可能な洗浄装置及び洗浄方法を提供すること。【解決手段】洗浄装置１であって、容器２０と、洗浄水供給路と、前記容器２０から処理に用いた洗浄水を排出する処理液排出路と、前記処理対象物Ｗを容器外に排出する処理対象物排出部とを備え、前記容器２０は、筒体２１と、前記筒体２１の第１端部に配置され主開口部２５が形成された第１壁部２２と、前記筒体２１の第２端部に配置されオーバーフローした処理液を排出可能とするオーバーフロー排出口２６が形成された第２壁部２３と、前記処理対象物Ｗが載置される床部材２４とを備え、前記床部材２４は、前記第２端部側が上方に傾斜する第２床部材２４Ｂを備えていることを特徴とする。【選択図】図５
