In der vorliegenden Erfindung werden ein Verfahren und eine Einrichtung zum Erzeugen und/oder Bereitstellen eines Strahlungsfelds (50, 51, 52) zum Bestrahlen eines Substrats beschrieben. Dabei wird das Strahlungsfeld (50, 51, 52) durch die Gesamtheit der von einer Strahlungsquelle (11) abgegebenen Strahlung gebildet. Die vorliegende Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Form und/oder die Größe des Strahlungsfelds (50, 51, 52) eingestellt oder an eine Vorgabe angepasst wird, indem vor und/oder während der Erzeugung und/oder Bereitstellung des Strahlungsfelds (50, 51, 52) wenigstens ein strahlungsfeldbestimmender Parameter eingestellt oder vorgegeben wird und dass das Strahlungsfeld (50, 51, 52) mittels des strahlungsfeldbestimmenden Parameters erzeugt und/oder bereitgestellt wird.In the present invention, a method and a device for generating and / or providing a radiation field (50, 51, 52) for irradiating a substrate described. In this case, the radiation field (50, 51, 52) by the totality of the of a radiation source (11) formed radiation emitted. The present invention is characterized in that the shape and / or the size of the radiation field (50, 51, 52) or adjusted to a presetting is adapted, in that before and / or during the production and / or provision of the radiation field (50, 51, 52) at least one radiation field is adjusted or preset parameters that characterize, and in that the radiation field (50, 51, 52) by means of the radiation field of certain ends parameter is generated and / or is made available.
