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基于激光刻蚀技术制备微针阵列模板的方法及产物与应用
- 专利权人:
- 华中科技大学;华中科技大学同济医学院附属协和医院
- 发明人:
- 朱锦涛,李朝,柳佩,陶娟,董励芸
- 申请号：
- CN201610882818.X
- 公开号：
- CN106511257A
- 申请日:
- 2016.10.10
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种基于激光刻蚀技术制备微针阵列模板的方法及产物与应用，其中该制备方法包括以下步骤：(1)将PDMS和固化剂固化冷却后得到PDMS基板；(2)设计激光刻蚀掩模板的图样使该图样为同心圆阵列；(3)将PDMS基板放置于激光雕刻机的雕刻区域，并设置激光加工工艺条件参数；接着，参照激光刻蚀掩模板图样对PDMS基板进行激光处理，从而得到经过激光刻蚀的PDMS基板，即微针阵列模板。本发明通过对其关键激光刻蚀的工艺条件进行改进，能够有效解决微针阵列模板制备过程复杂、价格昂贵、结构设计性差以及微针阵列模板大规模生产和应用困难的问题。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
