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新的杂环H3拮抗剂
专利权人:
高点制药有限责任公司
发明人:
R·霍尔维戈,J·M·兰德贝克,J·C·德容
申请号:
CN200880100442.6
公开号:
CN101795567A
申请日:
2008.05.19
申请国别(地区):
中国
年份:
2010
代理人:
任宗华
摘要:
式(I)的化合物及其盐和溶剂合物,它们对组胺H3受体具有亲和力其中W,X,Y,Z是-C(R1)=或N;R1是氢或烷基,V是N或C(即碳),A是键或具有1至3个碳原子的亚烷基连接基,条件是当A是键时,V必须是CH,R是乙基、丙基、支链C3-6烷基或环C3-8烷基,m和n是1-3,D是任选地被卤素,羟基,氰基,烷基,环烷基,烷氧基,-(CH2)o-(C=O)p-NR2R3取代的杂芳基,或D是任选地被一个或多个独立地选自如下的基团取代的芳基:氢,卤素,羟基,氰基,烷基,环烷基,卤代烷基,烷氧基,卤代烷氧基,烷基磺酰基,烷基亚磺酰基,杂环基,杂环基烷基,杂环基烷氧基,杂环基羰基,烷基羰基,烷氧基羰基,烷基羧基,氰基烷基,羟基烷基,烷氧基烷基,烷基羰基氨基,烷基羰基氨基烷基,芳基羰基氨基,芳基羰基氨基烷基,杂芳基羰基氨基或杂芳基羰基氨基烷基,-(CH2)o-(C=O)p-NR2R3,其中o是0-3,p是0或1,且R2和R3独立地为氢,烷基或环烷基;或R2和R3可以一起与所连接的氮形成杂环基。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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